PL-DW200真空等離子清洗機：等離子通常稱作物質的第四種狀態，前三種狀態是固體、液體、氣體，它們是比較常見的，就存在于我們周圍。等離子在地球上只存在于某種特定環境，如閃電、極光。就好象把固體轉變成氣體需要能量一樣，產生離子體也需要能量。一定量的離子體是由帶電粒子和中性粒子（包括原子、離子和自由粒子）混合組成。離子體能夠導電。 
等離子技術的應用 
通過對物體表面進行等離子轟擊，可以達到對物體表面的蝕刻，活化，清洗等目的。可以顯著加強這些表面的粘性及焊接強度，等離子表面處理系統現正應用于LCD，LED，IC，PCB，SMT，BGA，引線框架，平板顯示器的清洗和蝕刻。等離子清洗過的IC可顯著提高焊線強度，減少電路故障的可能性。殘余的感光阻劑、樹脂，溶液殘渣及其他有機污染物暴露于等離子體區，短時間內就能清除。PCB制造商用等離子蝕刻系統進行去污和蝕刻來帶走鉆孔中的絕緣物。對許多產品，不論它們是應用于工業。電子、航空、健康等行業，可靠性都依靠于兩個表面之間的粘結強度。不管表面是金屬、陶瓷、聚合物、塑料或是其中的復合物，等離子體都有潛能改進粘著力，提高終產品質量。等離子體改變任何表面的能力是安全的、環保的、經濟的。它是許多行業面臨的挑戰問題的可行的解決方案。 
等離子處理的原理 
給一組電極通上射頻電源，電極之間形成高頻交變電場，區域內氣體在交變電場的激蕩下，形成等離子體，活性等離子對物體表面進行物理轟擊與化學反應雙重作用，使被清洗物表面物質變成粒子和氣態物質，經過抽真空排出，而達到表面處理的目的。 
在整個等離子處理過程中，影響等離子處理效果的要素包括過程溫度、射頻功率、氣體分配、真空度、電極設置、靜電保護等等  PL-DW200真空等離子清洗機? 不銹鋼艙體：620mm×620mm×530mm
? 容量：200 升
? 處理過程：分手動與自動控制
? 功率：1300W
? 電源：AC380V
? 射頻電源：13.56MHz

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