KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S多路混氣管式PECVD系統,由KJ-T1200單溫區管式爐、真空系統、質子流量計、射頻電源系統系統組成。
混氣管式PECVD系統是為了使化學反應能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的活性來促進反應,環境溫度在100-300℃,但反應氣體在輝光放電等離子體中能受激分解、離解和離化,從而大大提高了反應物的活性,這些具有反應活性的中性物質很容易被吸附到較次溫度的基本表面上,發生非平衡的化學反應沉積生成薄膜,因此這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法(PECVD)。
設備可在片狀或類似形狀樣品表面沉積SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜,并可沉積p型、n型摻雜薄膜。沉積的薄膜具有良好的均勻性、致密性、粘附性、絕緣性。廣泛應用于刀具、高精模具、硬質涂層、裝飾等領域。

重量輕、升溫速度快、節能、省時、耐高溫、耐腐蝕、保溫性好,能滿足何種快速燒結的要求。

具有極低的熱膨脹系數、耐高溫、化學穩定性好、電絕緣性好。

整個爐體采用雙層內膽式結構,中間有氣隙隔離,即使爐膛溫度高達1200℃,爐體表面仍然可以安全觸摸無滾燙感覺。

有效的提高了法蘭的氣氛性,法蘭上裝有多種接頭,可接電阻真空計、真空波紋管并能做成容易撤卸的鉸鏈式。

加熱元件采用內嵌式合金電熱絲,發熱效率高、耐高溫、抗氧化、耐腐蝕、升溫快、壽命長、高溫變形小、安裝維修方便,使用壽命長。

操作簡便,控溫精確、可靠、安全多段可編程控制,可以簡化復雜的試驗過程,真正實現自動控制和運行。
爐體配有:輸出電壓和輸出電流監測表,爐子加熱狀態一目了然。
管式爐系統 | |
爐管尺寸 |
直徑60mm |
加熱區長度 |
440mm(更多規格可按照客戶要求定制) |
正常工作溫度 |
1100℃ |
高工作溫度 |
1200℃ |
加熱元件 | 摻鉬合金加熱絲 |
爐膛材質 | 采用日本進口爐膛材料,不掉粉、材料保溫性能好、反射率高、溫場均衡,抗熱漲冷縮能力強 |
控溫方式 |
智能化30段可編程控制(用戶可選配液晶觸摸屏顯示) |
真空系統 | |
高真空分子泵組,高真空復合真空計
前級泵2升每秒,分子泵600升每秒 采用KF25系列波紋管和真空擋板閥連接 |
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質子流量計 |
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高精度質量流量計可準確的控制氣體流量 氣體流量范圍為0-500SCCm 誤差為0.02% 出氣真空壓力表,內置氣體混氣系統, 不銹鋼針閥計管道,標準雙卡套接頭 |
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射頻電源系統 |
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輸出功率 |
50-500W大可調±1% |
RF頻率 |
13.56MHz,穩定性±0.005% |
噪聲 |
≤55DB |
冷卻 |
風冷 |
輸入功率 |
1KW AC 220V |
提供相關配件 |
氣煉石英爐管、真空法蘭、高溫手套、坩堝鉤、熱電偶、防燙罩、剛玉坩堝、爐塞 |
電氣認證 | CE認證 |
售后服務 | 12個月質保、終身保修 |